掩膜版结构

掩膜版结构

业内又称光掩模版、掩膜版，英文名称 MASK 或 PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝光，显影，去感光胶，z后应用于光蚀刻。

结构

实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。

倍缩光掩模（Reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。

光掩模（Mask）：当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。

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关键词：  掩膜版  狭缝片  导热片

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